Моделирование оптических свойств чёрного кремния, пассивированного тонкими плёнкамиоксидов металлов

Катков, М. В. and Айвазян, Г. E. and Шаяпов, В. Р. and Лебедев, М. С. (2020) Моделирование оптических свойств чёрного кремния, пассивированного тонкими плёнкамиоксидов металлов. ՀՀ ԳԱԱ Տեղեկագիր. Ֆիզիկա, 55 (1). pp. 24-32. ISSN 0002-3035

Preview

PDF Download (1550Kb) | Preview

Abstract

Методом конечных разностей во временной области (FDTD) исследованы оптические свойства слоев черного кремния (b-Si), пассивированных пленками оксидов различных металлов (Al2O3, TiO2, HfO2 и Sc2O3), полученных методом атомно-слоевого осаждения (ALD). Ժամանակային տիրույթում վերջավոր տարբերությունների (FDTD) մեթոդով ուսումնասիրվել են սև սիլիցիումի (b-Si) շերտերի օպտիկական հատկությունները, որոնք պասսիվացված են ատոմաշերտային նստեցման (ALD) մեթոդով ստացված տարբեր մետաղական օքսիդների (Al2O3, TiO2, HfO2 և Sc2O3) թաղանթներով: FDTD մոդելավորման արդյունքները վկայում են սպեկտրային լայն տիրույթում b-Si/ALD թաղանթ-կառուցվածքների հակաանդրադարձնող հատկությունների լավացումը: Ցույց է տրվել թաղանթի օպտիմալ հաստության ընտրության անհրաժեշտությունը: Using the Finite Difference Time Domain (FDTD) method, we studied the optical properties of black silicon (b-Si) layers passivated with various metal oxides (Al2O3, TiO2, HfO2, and Sc2O3) films, obtained by atomic layer deposition (ALD) method. The results of FDTD modeling indicate an improvement in the antireflection properties of b-Si/ALD film structures in the wide spectral range. The necessity of choosing the optimal film thickness is shown.

Actions (login required)